名称：超大规模集成电路技术基础
作者:李兴
出版社:电子工业出版社
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超大规模集成电路技术基础内容简介

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超大规模集成电路技术基础部分内容

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　　本书系统地介绍了超年夜范围集成电路工艺理论和工艺方法。全书共九章，包括光刻、搀杂、氧化及热处置品、薄膜工艺根本与物理气相沉积、化学气相沉积、刻蚀、平展化与多重内连线工艺及超年夜范围集成电路工艺汇总等。

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